箱式真空爐結構

更新時間：2020-01-03

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箱式真空爐適用于工礦企業(yè)、大專院校，科研院所及實驗室作真空或氣氛狀態(tài)下燒結各種新材料樣品用。箱式真空爐可供化學分析、物理測定，以及金屬、陶瓷的燒結和熔解、小型鋼件等加熱、焙燒、烘干、熱處理用。
箱式真空爐是一種先進實驗設備，適用于金屬，納米，單晶硅，多晶硅，電池等的擴散焊接以及真空氣體保護下，箱式真空爐熱處理的加熱設備。主要用于材料試驗、合成、燒結等。爐體保溫性能良好，節(jié)能*。

箱式真空爐還可用于、復合材料、粉體材料、結構陶瓷、合金的真空熱壓燒結。
箱式真空爐工分為以下幾個部分，
1.爐膛
箱式真空爐爐膛采用莫來石聚輕磚砌筑，爐膛內上下用碳化硅棚板，爐內溫度是加熱元件在加熱過程中經過碳化硅棚板傳導（暗火加熱），溫度更均勻。箱式真空爐爐殼密封。為提高密封墊的使用壽命在爐門口設有循環(huán)水冷套以降低密封處的溫度。進氣設爐膛底部，經加熱腔預熱后分多處進入爐內，排氣經爐頂后部排出。保證爐內氣氛均勻，減小爐內溫差。氣路上裝有氣體流量計，用于正常使用控制氣氛流量。
2.箱式真空爐冷卻爐門采用循環(huán)式水冷。設有進出水接頭。
3.電氣箱式真空爐電氣部分采用與爐體一體化結構，整個電氣元件安裝在爐體底部的一側，結構緊湊、占用空間小。箱式真空爐溫控安裝在爐體側面板上，觀察直觀，調節(jié)方便，溫控儀具有PID調節(jié)功能，可自動跟蹤設定PID值，可任意設定測量分度密碼，同時具備補償功能，可使爐膛溫度與顯示值一致，箱式真空爐控溫方式：采用德國西門子技術，具有軟啟動、軟關斷、可控硅移相調壓控制，0~98%輸出可調節(jié)，面板上各種儀表開關等有相應的中文標牌。

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